와우댕글의 아이디어 세상

목차

1. 기화 증착(Evaporation Deposition)
1) 구성
2) 원리
3) 동작 방법

2. ITO Patterning 공정

3. OLED 증착 시스템

4. 봉지 공정(Encapsulation)

5. 기본적인 특성의 평가(특성 평가 장치 I-V-L)

본문내용

2) 원리
기화증착 방법은 박막제조를 위해 널리 사용되었던 고전적인 증착 기술이다. 물질을 기화시키는 가열 방법으로는 일반적으로 고주파 가열기를 널리 사용하나, 특수한 경우 고출력 레이저빔 또는 전자빔을 조사하여 용융, 기화시키기도 한다.
액체 상태에서 기체 상태로의 물질 변환을 증발(Evaporation)이라 부르며, 고체 상태에서 기체 상태로의 변환을 승화(Sublimation)라 부르는데, 이 두 현상 모두가 기화 증착에 이용되어 진다.

<중략>

증착 챔버 내에는 선형소스가 고정되어 있고, 아래쪽을 향하는 유리기판이 셔틀에 실려 움직이므로 기판이 증발원에 대하여 스캐닝 하도록 한다. 즉, 셔틀의 속도를 조절하면서 적당한 박막의 두께를 조절할 수 있으며 필요시 셔틀의 움직임을 증발원에 대하여 왕복운동을 할 수도 있다. 
증착이 완료된 마스크는 크리닝하여 회수하게 된다. 기판에 얼라인 되어 증착 공정이 완료되면 마스크는 마스크 교환 챔버에서 이층레일로 실려져 이전의 마스크 얼라인 챔버로 회수된다. 이 때 회수되기 직전에 마스크는 마스크 크리닝 챔버에 떨어뜨려져 이온빔을 사용하여 in-situ로 마스크 크리닝을 하게 된다. 이렇게 하여 마스크를 진공 챔버 밖으로 꺼내지 않고 크리닝하므로 연속적인 공정이 가능하다.

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